板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR/PVD)
板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR/PVD)
技术特点 Features
· PVD具有多阶阴极，可以制备种子层与多种折射率的叠层TCO。
· RPD具有无高能离子轰击衬底特点，能制备高少子迁移率的TCO。
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