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反应式等离子体镀膜设备 (RPD)
RPD镀膜适合钙钛矿、异质结太阳能电池、微型发光二极管与量子点显示器等的各种薄膜制备。
多功能薄膜沉积设备(SPE)
将真空蒸镀、反应式等离子镀膜、磁控溅射三大镀膜模块整合成一体。
全自动石墨舟装卸片机
设备模块化设计，内部相似结构零部件高度统一，便于备件管理。
全自动石英舟装卸片机
设备具有友好的人机界面和完善的检测报警系统，保证设备自动运行稳定，操作放心。
全自动硅片上/下料机
采用PLC控制，上/下片过程全自动完成。
激光优化烧结设备
激光器、扫描振镜，场镜及所有光学元器件均为业内知名品牌，具有优越的稳定性、可靠性。
磁控溅射镀膜设备(PVD)
PVD具有多阶阴极，可以制备种子层与多种折射率的叠层TCO。
管式等离子体多晶硅淀积炉
隧穿氧化层、i-poly、D-poly 三合一同管完成，减少工艺环节，有效提升良率、降低碎片率。
管式低压硼扩散炉
成熟BBr3液态源、BCL3气态源控制与输送技术。
管式扩散氧化退火炉
全面的防超温、断偶、撞舟等安全报警保护功能。
管式等离子体淀积炉
可靠电极接触，有效减少粉尘、降低高频报警频次。
管式低压淀积炉
低压与热壁工艺特性，成膜均匀性、致密性好。
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